对准磁铁

对准磁铁

      对准磁体用于在衬底上提供均匀的场。 这些区域用于将导磁材料强迫到优选的取向。 对准可以在处理中或作为后处理操作发生，如在退火磁体的情况下。
现在，对准磁体被设计为小至10磅且大至10,000磅。 在设计期间，指定拓扑的磁路被配置为精确地控制装置的磁场形状，幅度和均匀性。 这些输出特性对于正在处理的产品的最终性能都是至关重要的。

    为了验证最终性能，制造商对每个器件进行串行化和磁性映射

类型

    •退火

    •电镀

    •溅射

退火
        一些产品需要晶粒的后处理取向以实现完全的功能。这些后处理通常在升高的温度下发生，以允许颗粒运动。通过在高温下将产品暴露于磁场，颗粒自由地与磁通线对准。在冷却循环期间保持产品暴露于磁场，将区域以优选取向固定。这些类型的磁体通常在退火炉的外部，但是可以利用适当的材料选择放置在其中。这些磁体可以是永久的，电磁的或超导的，这取决于现场要求和所需的可调节程度。精密磁铁是永久的和电磁铁。不支持需要超导版本的应用。因此，这些设备中的字段通常限于1特斯拉。
当在退火炉外部使用时，还必须考虑热暴露，因为显着的热可以从炉传送到磁体。建议使用适当的绝缘或磁体间隔。

电镀

        通常，在读/写头的制造过程期间将坡莫合金膜电镀到晶片上。 坡莫合金晶粒的取向对最终产品的适当功能是关键的。 通过在电镀槽中将晶片暴露于磁场，晶粒自由地与磁通线对准。 当从电镀浴中移出时，膜特性被钉在优选的取向方向上
这些类型的磁体安装在电镀槽外部。 这些磁体可以是永久的或电磁的，这取决于现场要求和所需的可调节程度。 这些设备中的字段通常限制为1特斯拉。
由于电镀环境，这些磁体可暴露于腐蚀性元素。 磁体的适当电镀和屏蔽对于性能的寿命是至关重要的。

溅射

        在工艺中，溅射膜的晶粒排列对于产品的最终性能是关键的。在薄膜沉积工艺期间，将透磁材料沉积到衬底上。如果溅射原子在沉积期间暴露于磁偏置场，则晶粒生长优选与磁通线对准。在固化时，膜特性在优选的取向方向上固定。
这些类型的磁体可以位于溅射沉积系统外部或内部。这些磁体可以是永久的或电磁的，这取决于现场要求和所需的可调节程度。这些设备中的字段通常限制为0.1特斯拉。
作为溅射过程的结果，位于真空室内的磁体通常需要气密密封以保证兼容性。在真空室内发现的电磁体通常需要主动冷却以确保对在无对流环境中发生的欧姆损失的热控制。

1，帮助我们设计

我们不做对齐;我们制造使这些装置能够有效操作的磁性组件。为了制造完美的磁体组件，我们需要知道以下内容

    是永磁体还是电磁体解决方案？
    一个。如果电磁铁，已经选择了电源？
    一世。如果是，其规格（功率，电流，电压）是多少？
    2.您要查找的体积或面积的大小是多少？
    3.在那个体积/面积上你需要什么场强？
    4.对于那个体积/面积，你需要什么场均匀性？
    5.在该体积/面积上要求的最大偏斜是多少？
    6.磁体的最大重量和尺寸限制是多少？
    7.对准磁铁是否在真空内？
    8.对准磁铁在什么温度范围内工作？
    9.对准磁体将浸没在流体中吗？
    10.如何将校准磁体集成到系统中？
    11.如何将校准磁体集成到系统中？
    一个。下面/上面的坦克或烤箱
    一世。如果低于/高于，高于或低于活性体积/面积？
    b。围绕坦克或烤箱
    ii。如果在周围，磁铁容纳什么尺寸的容器？

2，材料

    电磁铁

    1.铜线（绝缘应用）

永磁铁

    1. Nd-Fe-B - 最高强度/体积，中等成本，中等温度极限（150°C），
    2. Sm-Co - 高强度/体积，成本最高，高温极限（300°C）
    3.陶瓷 - 低强度/体积，成本最低，高温极限（300°C）
    4. Alnico - 适中于高强度/体积，高成本，最高温度极限（450°）

框架材料

    1.碳钢（1010,1045） - 高饱和磁通，成本低，耐腐蚀性差
    2.马氏体不锈钢（416,430） - 中高饱和通量，中等成本，良好的耐腐蚀性
    3.镍超合金（Hiperco®） - 最高的饱和通量，最高的成本，优异的耐腐蚀性
    3，RFQ

1.这些磁铁的尺寸是多少？

    磁体的尺寸取决于场要求以及所提出的系统拓扑。设计了小至10磅和大至10,000磅的单位。